周波数によって洗浄効果が異なる

周波数の違いは洗浄力の違い

金属や樹脂製品の目に見える汚れの洗浄には、低周波数の洗浄機を用いるのが一般的。
28kHz の場合は洗浄エネルギーが強く、キャビテーションによる汚れの剥離効果が高く現れるため、油分を含んだ汚れも含めて効果的に洗浄できます。
ただ、対象物に与えるダメージも大きいので、金属や樹脂でできたものを洗浄するのに適しています。
40kHzになると、28kHzよりもダメ―ジは少ないので、眼鏡やアクセサリーといった傷つきやすい身の回りの物におすすめ。
100kHzはさらにダメージが少ないため、ハードディスクやCSP基盤といった電子関係の洗浄に向いています。
キャビテーションの効果は周波数が高くなるにつれて泡の直径が小さくなり、破裂による衝撃も少なくなるのが特徴です。
よって周波数が高い洗浄機の場合、キャビテーションが起こりにくく、ダメージが小さいという特徴があります。

高い周波数の洗浄機

キャビテーションによるゴミの剥離効果が望めるのは、低い周波数を利用した洗浄機の特徴です。
除去力が大きいことと比例して対象物へのダメージも大きくなるため、半導体やシリコンウェーハなどデリケートな対象物の洗浄には向いていません。
このような対象物には、400kHzや1MHzといった周波数の高い洗浄機が適しています。
周波数が高くなれば水分子の動く速度も速くなり、より細かな異物の除去が可能。
400kHzでは0.2～5μm、１MHzとなると0.2μｍ～1μm、3MHzとなると0.2μm以下の異物を除去することができるといいます。
対象物にダメージを与えることなく目に見えないゴミを除去できるため、電子製品を製造するために必需品となる半導体製造には欠かせない技術です。
半導体の基盤となる材料として必需品である、シリコンウェーハの洗浄のために業界から注目をされています。